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超純水系統（ULTRE PURE WATER，簡稱UPW）是指從原水（通常為自來水或者產線回收水）經由多重過濾，離子交換，逆滲透，紫外線殺菌，UV酸化裝置，脫氣膜、高純度樹脂、超濾所產生的極高程度純水系統。

超純水的規格因應用而異，但通常應具有18.2 MΩ-CM 或更高的電阻率，低水平的離子（如鈉、鉀和鈣），低水平的有機和無機污染物，低水平的細菌和顆粒物，中性pH值為7.0。

此外，超純水可以進一步凈化以滿足特定要求，例如半導體制造中低硅酸鹽含量。因此被譽為半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件等領域的工業血脈。超純水處理的標準為末端出水電阻率≥18MΩ。

清洗

半導體生產過程中，硅片需要經歷多次的蝕刻、沉積、光刻等步驟。在每個步驟之后，都需要使用超純水進行清洗，以去除殘留在硅片上的化學物質和微小雜質。雜質如果不清洗干凈，將會對后續的制程步驟產生影響，甚至可能導致產品性能下降。

冷卻

半導體生產設備在運行過程中會產生大量的熱量。超純水因其良好的熱導率和純度，常被用作設備的冷卻劑，幫助保持設備的穩定運行。

濕蝕刻和化學機械拋光（CMP）

在某些濕蝕刻或者化學機械拋光（CMP）過程中，超純水作為制程介質使用。超純水的純度能夠保證這些過程的精度和質量。

稀釋劑

在半導體制造過程中，許多化學品需要稀釋后使用，超純水就是理想的稀釋劑。

光刻

在光刻過程中，超純水也被用于清洗和沖洗光阻涂層，以確保光刻質量。